一種軟X射線多層膜界面粗糙度的計算方法

提出一個利用多層膜小角X射線衍射譜衍射峰積分強度計算多層膜界面粗糙度的公式.用磁控濺射技術制備Mo/Si多層膜,用波長為0.154 nm的硬X射線測量樣品在小掠入射角區(qū)的衍射曲線,分別用本文公式和反射率曲線擬合方法計算了樣品的界面粗糙度.實驗結果表明:由本文公式獲得的界面粗糙度近似于擬合方法獲得的界面粗糙度,它們略等于多層膜界面實際粗糙度.

作 者： 馮仕猛 趙海鷹 黃梅珍 范正修 邵建達 竇曉鳴   作者單位： 馮仕猛,趙海鷹,黃梅珍,竇曉鳴(上海交通大學物理系,上海)

范正修,邵建達(中國科學院上海光學精密機械研究所,上海,201800) 

刊 名： 光學學報  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA  年，卷(期)： 2003 23(8)  分類號： O484  關鍵詞： 薄膜光學   多層膜   X射線衍射強度   粗糙度  

【一種軟X射線多層膜界面粗糙度的計算方法】相關文章：

同步輻射(軟X射線)輻照玉米的細胞學效應研究04-27

高能X射線的硬化校正04-27

同步輻射軟X射線Nk對產L-乳酸米根霉的誘變效應04-27

Fe/Mo多層膜的微觀結構與應力研究04-26

名人故事：倫琴發(fā)現(xiàn)X射線的故事10-23

工業(yè)X射線探傷的輻射防護及其管理04-25

某醫(yī)院醫(yī)用X射線診斷受檢者的防護對策04-25

X射線脈沖星導航定位技術研究04-27

坡莫合金/銅磁性多層膜微觀力學性能的研究04-26

浦東新區(qū)工業(yè)X射線探傷的衛(wèi)生防護現(xiàn)況調查04-26