表面平整度測(cè)量的新方法研究

介紹了用反射干涉頻譜法測(cè)量透明或半透明薄膜表面平整度的方法,薄膜厚度的測(cè)量范圍約在0.2～20 μm(小于20 μm)之間.在對(duì)二氧化硅薄膜的測(cè)試中,該測(cè)試方法與橢圓偏振儀的測(cè)試結(jié)果相比較,其縱向測(cè)量誤差小于2 nm.通過(guò)光纖傳感器在薄膜上的移動(dòng),對(duì)薄膜上各點(diǎn)的反射光譜進(jìn)行分析,得到各點(diǎn)的厚度.通過(guò)步進(jìn)電機(jī)的移動(dòng),連續(xù)測(cè)量膜上不同點(diǎn)的厚度,從而獲得薄膜的表面形貌.該方法對(duì)薄膜無(wú)破壞作用,且無(wú)需測(cè)量干涉條紋,與其他的非接觸式測(cè)試方法相比較,具有無(wú)橫向測(cè)試范圍限制、測(cè)試系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、測(cè)試精度高、測(cè)試結(jié)果可靠的特點(diǎn),因此有較強(qiáng)的實(shí)用性.

作 者： 孫艷 王昭 譚玉山   作者單位： 西安交通大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院,710049,西安  刊 名： 西安交通大學(xué)學(xué)報(bào)  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY  年，卷(期)： 2003 37(3)  分類(lèi)號(hào)： O433  關(guān)鍵詞： 干涉   光纖   頻譜儀   表面平整度  

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