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ZnO薄膜制備及其發(fā)光特性研究
用射頻磁控反應(yīng)濺射法分別在未加熱和加熱的石英玻璃襯底上制備ZnO薄膜,在不同溫度下進(jìn)行退火處理,研究襯底溫度、退火條件對(duì)其結(jié)構(gòu)和發(fā)光性能的影響.通過(guò)對(duì)樣品的X射線(xiàn)衍射(XRD)、吸收光譜和光致發(fā)光(PL)光譜的測(cè)量結(jié)果表明,襯底溫度為230 ℃、退火溫度為400 ℃時(shí)樣品結(jié)晶性能最佳,并具有最強(qiáng)的紫外光發(fā)射(380 nm).
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