銅酞菁緩沖層改善有機(jī)電致發(fā)光器件性能的機(jī)理研究

利用銅酞菁薄膜充當(dāng)緩沖層,研究了緩沖層對(duì)有機(jī)電致發(fā)光器件性能的影響,研究結(jié)果表明含有銅酞菁緩沖層的器件性能明顯優(yōu)于不含有緩沖層的器件,加入銅酞菁緩沖層后器件發(fā)光穩(wěn)定性也得到了改善.本文對(duì)相關(guān)機(jī)理進(jìn)行了探討,分析認(rèn)為,銅酞菁本身的熱穩(wěn)定性和它能夠降低空穴注入勢(shì)壘的性質(zhì)是提高器件性能的主要原因.

作 者： 胡遠(yuǎn)川 王立鐸 董桂芳 張德強(qiáng) 邱勇   作者單位： 清華大學(xué)化學(xué)系,北京,100084  刊 名： 功能材料  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS  年，卷(期)： 2002 33(3)  分類(lèi)號(hào)： O621.2  關(guān)鍵詞： 電致發(fā)光   銅酞菁緩沖層   界面電阻  

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