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平板擾流片高度對(duì)壁面壓力分布的影響

時(shí)間:2023-04-28 17:27:51 航空航天論文 我要投稿
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平板擾流片高度對(duì)壁面壓力分布的影響

在風(fēng)洞中研究了擾流片高度和底部間隙對(duì)平板擾流片引起的底板壁面壓力分布的影響.用電子掃描閥測量的壓力分布結(jié)果表明,底部沒有間隙時(shí),擾流片高度的增加不影響擾流片前后分離點(diǎn)、再附點(diǎn)以及主渦相對(duì)位置的變化;而下游回流區(qū)二次渦的相對(duì)高度隨著擾流片高度的增加而增加,導(dǎo)致該區(qū)域無量綱壓力系數(shù)絕對(duì)值減小.底部相對(duì)間隙在0.8~2.0之間時(shí),擾流片高度小于邊界層厚度時(shí)的壁面平均壓力比擾流片高度大于邊界層厚度時(shí)小30%左右.底部間隙對(duì)各種擾流片引起的壁面壓力分布的影響趨勢完全相似.

作 者: 張攀峰 王晉軍 展京霞   作者單位: 北京航空航天大學(xué)飛行器設(shè)計(jì)與應(yīng)用力學(xué)系,北京,100083  刊 名: 水利學(xué)報(bào)  ISTIC EI PKU 英文刊名: JOURNAL OF HYDRAULIC ENGINEERING  年,卷(期): 2002 ""(3)  分類號(hào): V211.1+9  關(guān)鍵詞: 流動(dòng)分離   流動(dòng)再附   擾流片   壓力分布  

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